Программа & lt; & lt; Сапфир & gt; & gt;

Сапфир (Alnenenebk Oneneneen) является монокристаллическим материалом, который уступает по твердости только алмазу, с твердостью до 9,0 и обладает высокой поверхностной износостойкостью. Тем не менее, его вязкость к разрушению низкая, относится к типичному хрупкому материалу, при точной обработке с уменьшением тонуса необходимо строго контролировать напряжение обработки, чтобы избежать микротрещин или обвалов. 4 - дюймовая сапфировая подложка является основным выбором текущего рынка, по сравнению с 2 - дюймовой площадью, которая увеличилась примерно в 4 раза, стоимость снизилась более чем на 30%, хорошая скорость стабилизировалась на уровне 82 - 85%, является точкой баланса между технологической зрелостью и рыночным спросом.

Специальное технологическое решение · Сапфировая подложка

Перед лицом сапфировой подложки с твердостью 9.0 по Моуринью и низкой вязкостью к разрыву, через скрининг шлифовального круга, двухосное соответствие скорости вращения, плоскость подшипника и мощность шпинделя в четырех измерениях систематического эксперимента, блокируйте стабильное и повторяющееся окно процесса уменьшения утолщения.

Материалы:4 - дюймовая сапфировая подложка
Использование оборудования:AG7500
Стабильность TTV:2 μm

Свойства материала

Сапфир (Alnenenebk Oneneneen) является монокристаллическим материалом, который уступает по твердости только алмазу, с твердостью до 9,0 и высокой поверхностной износостойкостью; Тем не менее, его вязкость к разрушению низкая, относится к типичному хрупкому материалу, при точной обработке с уменьшением тонуса необходимо строго контролировать напряжение обработки, чтобы избежать микротрещин или обвалов.

4 - дюймовая сапфировая подложка является основным выбором для текущего рынка: по сравнению с 2 - дюймовой площадью увеличение примерно в 4 раза, снижение стоимости более чем на 30%, хорошая скорость стабилизировалась на уровне 82 - 85%, является точкой баланса между технологической зрелостью и рыночным спросом.

  • Твердость по Морзе:9.0 (после алмазов)

  • Твердость по Виккерсу:1700–2000 kgf/mm²

  • Интенсивность изгиба:Около 400 МПа

  • Устойчивость к разрыву:1.5–2.0 MPa·m^1/2

Основные рыночные приложения

4 - дюймовая сапфировая подложка широко используется в высокотехнологичных областях.

Mini / Micro LED · Потребительская электроника и дисплей

Графическая сапфировая подложка (PSS) повышает эффективность извлечения света на 15 - 30% и идеально подходит для высокоплотной, высокояркой и высококачественной технологии отображения, такой как Mini / Micro LED.

Радиочастотная и силовая электроника · Промышленность и связь

Идеальная подложка для интегральных схем SOS, силовых устройств GaN, радиочастотных чипов RFIC для удовлетворения потребностей высокопроизводительных приложений, таких как связь 5G / 6G, новые энергетические транспортные средства и фотоэлектрические инверторы, ежегодный совокупный рост рынка более 12%.

Оптические окна и защита · Потребительская электроника и военная промышленность

Благодаря высокой твердости и износостойкости, широко используется в защитных линзах мобильных камер, высококачественных часовых зеркалах, промышленных оптических окнах и аэрокосмических прецизионных приборах.

Эксперимент по оптимизации процесса

Четырехмерный систематический эксперимент для определения оптимального технологического окна.

Эксперимент 1.

Тестирование 6A2T - M - D46, SD300, 6A2 - D320 # - M75 и других типов шлифовальных кругов, с упором на проверку скорости удаления материала, отношения износа и изменения кристаллического круга TTV.

Вывод: 6A2 - D320 # - M75 шлифовальный круг имеет наименьшее отношение износа при лучших условиях TTV.

Эксперимент 2.

Исследуйте связь скорости между шпинделем (2500 - 1750 rpm) и подшипником (60 - 190rpm) и проанализируйте стабильность обработки при разных скоростях и однородность удаления материала.

Вывод: Оптимальное соотношение между шпинделем 1750rpm + подшипником 190rpm.

Эксперимент 3. Оптимизация рабочего стола.

Сравните контуры поддержки разных настольных поверхностей (0,0, - 18 / 0, - 1, - 22 / 0, - 3, - 28 и т. Д.), количественный анализ воздействия на абразивные ситуации, TTV и т. Д.

Вывод: Оптимизируя поверхность стола, точность уменьшенного кристалла соответствует требованиям применения уровня упаковки.

Эксперимент 4.

Оцените два варианта мощности 7,5 кВт и 12 кВт, чтобы сбалансировать эффективность удаления материала за единицу времени с затратами на энергопотребление оборудования при условии обеспечения качества шлифования.

Вывод: схема 12 кВт имеет лучшее соотношение износа и обеспечивает поддержку данных для планирования производственных мощностей.

Данные о результатах экспериментов

15 групп экспериментальной проверки, процесс стабилен и может быть повторен.

  • TTV контролирует 2 мкм:Все 15 групп экспериментов TTV стабилизировались на уровне 2 мкм, обладая очень высокой способностью контролировать однородность толщины.

  • шероховатость поверхности Ra 0,15 - 0,25 мкм:Поверхностная шероховатость стабилизируется в этом интервале и соответствует последующим технологическим требованиям.

  • Коэффициент износа шлифовального круга 1: 4,5 ~ 1: 9:Абразивное отношение колеблется в этом диапазоне, при определенных условиях шлифовальный круг имеет более длительный срок службы и лучшую стоимость.

获取专属工艺方案

如您有类似的工艺难题或切割需求,欢迎联系我们的工艺工程师团队,我们将为您提供量身定制的解决方案。