Программа & lt; & lt; Сапфир & gt; & gt;
Сапфир (Alnenenebk Oneneneen) является монокристаллическим материалом, который уступает по твердости только алмазу, с твердостью до 9,0 и обладает высокой поверхностной износостойкостью. Тем не менее, его вязкость к разрушению низкая, относится к типичному хрупкому материалу, при точной обработке с уменьшением тонуса необходимо строго контролировать напряжение обработки, чтобы избежать микротрещин или обвалов. 4 - дюймовая сапфировая подложка является основным выбором текущего рынка, по сравнению с 2 - дюймовой площадью, которая увеличилась примерно в 4 раза, стоимость снизилась более чем на 30%, хорошая скорость стабилизировалась на уровне 82 - 85%, является точкой баланса между технологической зрелостью и рыночным спросом.
Специальное технологическое решение · Сапфировая подложка
Перед лицом сапфировой подложки с твердостью 9.0 по Моуринью и низкой вязкостью к разрыву, через скрининг шлифовального круга, двухосное соответствие скорости вращения, плоскость подшипника и мощность шпинделя в четырех измерениях систематического эксперимента, блокируйте стабильное и повторяющееся окно процесса уменьшения утолщения.
Материалы:4 - дюймовая сапфировая подложка
Использование оборудования:AG7500
Стабильность TTV:2 μm
Свойства материала
Сапфир (Alnenenebk Oneneneen) является монокристаллическим материалом, который уступает по твердости только алмазу, с твердостью до 9,0 и высокой поверхностной износостойкостью; Тем не менее, его вязкость к разрушению низкая, относится к типичному хрупкому материалу, при точной обработке с уменьшением тонуса необходимо строго контролировать напряжение обработки, чтобы избежать микротрещин или обвалов.
4 - дюймовая сапфировая подложка является основным выбором для текущего рынка: по сравнению с 2 - дюймовой площадью увеличение примерно в 4 раза, снижение стоимости более чем на 30%, хорошая скорость стабилизировалась на уровне 82 - 85%, является точкой баланса между технологической зрелостью и рыночным спросом.
Твердость по Морзе:9.0 (после алмазов)
Твердость по Виккерсу:1700–2000 kgf/mm²
Интенсивность изгиба:Около 400 МПа
Устойчивость к разрыву:1.5–2.0 MPa·m^1/2
Основные рыночные приложения
4 - дюймовая сапфировая подложка широко используется в высокотехнологичных областях.
Mini / Micro LED · Потребительская электроника и дисплей
Графическая сапфировая подложка (PSS) повышает эффективность извлечения света на 15 - 30% и идеально подходит для высокоплотной, высокояркой и высококачественной технологии отображения, такой как Mini / Micro LED.
Радиочастотная и силовая электроника · Промышленность и связь
Идеальная подложка для интегральных схем SOS, силовых устройств GaN, радиочастотных чипов RFIC для удовлетворения потребностей высокопроизводительных приложений, таких как связь 5G / 6G, новые энергетические транспортные средства и фотоэлектрические инверторы, ежегодный совокупный рост рынка более 12%.
Оптические окна и защита · Потребительская электроника и военная промышленность
Благодаря высокой твердости и износостойкости, широко используется в защитных линзах мобильных камер, высококачественных часовых зеркалах, промышленных оптических окнах и аэрокосмических прецизионных приборах.
Эксперимент по оптимизации процесса
Четырехмерный систематический эксперимент для определения оптимального технологического окна.
Эксперимент 1.
Тестирование 6A2T - M - D46, SD300, 6A2 - D320 # - M75 и других типов шлифовальных кругов, с упором на проверку скорости удаления материала, отношения износа и изменения кристаллического круга TTV.
Вывод: 6A2 - D320 # - M75 шлифовальный круг имеет наименьшее отношение износа при лучших условиях TTV.
Эксперимент 2.
Исследуйте связь скорости между шпинделем (2500 - 1750 rpm) и подшипником (60 - 190rpm) и проанализируйте стабильность обработки при разных скоростях и однородность удаления материала.
Вывод: Оптимальное соотношение между шпинделем 1750rpm + подшипником 190rpm.
Эксперимент 3. Оптимизация рабочего стола.
Сравните контуры поддержки разных настольных поверхностей (0,0, - 18 / 0, - 1, - 22 / 0, - 3, - 28 и т. Д.), количественный анализ воздействия на абразивные ситуации, TTV и т. Д.
Вывод: Оптимизируя поверхность стола, точность уменьшенного кристалла соответствует требованиям применения уровня упаковки.
Эксперимент 4.
Оцените два варианта мощности 7,5 кВт и 12 кВт, чтобы сбалансировать эффективность удаления материала за единицу времени с затратами на энергопотребление оборудования при условии обеспечения качества шлифования.
Вывод: схема 12 кВт имеет лучшее соотношение износа и обеспечивает поддержку данных для планирования производственных мощностей.
Данные о результатах экспериментов
15 групп экспериментальной проверки, процесс стабилен и может быть повторен.
TTV контролирует 2 мкм:Все 15 групп экспериментов TTV стабилизировались на уровне 2 мкм, обладая очень высокой способностью контролировать однородность толщины.
шероховатость поверхности Ra 0,15 - 0,25 мкм:Поверхностная шероховатость стабилизируется в этом интервале и соответствует последующим технологическим требованиям.
Коэффициент износа шлифовального круга 1: 4,5 ~ 1: 9:Абразивное отношение колеблется в этом диапазоне, при определенных условиях шлифовальный круг имеет более длительный срок службы и лучшую стоимость.
获取专属工艺方案
如您有类似的工艺难题或切割需求,欢迎联系我们的工艺工程师团队,我们将为您提供量身定制的解决方案。
