主要特点:
▏In-Feed磨削方式。
▏精密进口滚珠丝杆、直线导轨,Z向精密控制, 高精度
机台长时间保持。
▏ 双主轴,三工作盘,加工效率高。
▏ 全自动上下料、传输定位、清洗 干燥,实现全自动运行
模式,大大降低OP工作量。
▏ 稳定的超薄减薄加工。
▏ 兼容性好,与市面上的其他类型设备,关键耗材兼容性高。
▏ 便捷的操作与人机交互界面
先进功能:
应用:
主要用于4-8英寸半导体晶圆的全自动减薄加工,适用于特定半导体等材料。
技术指标:
最大工作物尺寸 |
mm |
Max.ø200" (ø4"~ø8") |
主轴 |
|
双主轴 |
主轴转速 |
Rpm |
1,000-6,000 |
真空吸台转速 |
Rpm |
0-300 |
Z轴最小位移量 |
μm |
0.1 |
最大磨削厚度 |
mm |
0.8 |
晶片磨削厚度 |
μm |
≥100 |
厚度变化量 |
μm |
≤2 |
不同片之间厚度变化量 |
μm |
≤±3 |
精加工面粗糙度 |
|
Ra≤10nm(2000#) (该参数主要取决于磨轮) |
磨削方式 |
|
全自动主轴进给式磨削 |
测高范围 |
mm |
0 - 0.8 |
晶盒配置 |
|
2 |
设备重量 |
Kg |
≈4,200 |
设备尺寸/ W*D*H |
mm |
1,200*2,800*1,900 |
使用条件:
• 请使用大气压露点在-15 ℃以下残余油分为0.1ppm,过滤度在0.01 μm/99.5 %以上的清洁压缩空气。
• 请将放置机械设备的房间室温设定在20 ℃〜25℃之间,并将波动范围控制在±1 ℃以内。
• 请将切削水的水温控制为室温+2 ℃(变化波动范围在±1 ℃以内),将冷却水的水温控制为与室温相同(变化波动范围在±1 ℃以内)。
• 其他,请避免设备受到撞击及外界的有感振动。另外,请不要将设备安装在鼓风机、通风口、产生高温的装置及产生油雾的装置附近。
• 本设备会使用水。万一发生漏水影响,请把本设备安装在有防水性之地板及有排水处理之场所。
• (*)为非标准配置。
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