8英寸全自动减薄设备

AG6800

AG6800 是一款面向 4-8 英寸半导体晶圆减薄制程的高精密全自动双轴三工位研磨设备,专用于 Si、GaN、SiC、蓝宝石等主流半导体材料的精密减薄加工,实现全制程自动化覆盖。它支持超薄晶圆加工与搬运,兼容 6-8 英寸晶圆,配备实时高精度测厚、真空预警、自动清洗等功能,搭载主轴循环水与气源保护系统,同时支持功能模块化与软件定制,可满足严苛的加工精度与产能要求。

加工尺寸

Φ 8"

主轴配置

双主轴
分类 参数名称 参数值
加工尺寸 - 6"~8"
配置 主轴形式 双主轴
主轴 输出功率 4.5/7.5 kW
转速范围 1000-5000 rpm
Z轴 行程 120 mm
最小进给速度 6 μm/min
快速移动速度 2 mm/s
最小位移量 0.1 μm
高度计 测量范围 ±1 mm
分辨率 0.1 μm
重复精度 <0.5 μm
真空吸盘 吸盘类型 多孔陶瓷式吸盘
转速范围 0-300 rpm
清洗方式 油石毛刷清洗
磨轮 金刚石砂轮 Φ209 mm
真空泵 真空压力 -90 kPa(水≥15℃ 流量≥3L/min)
功率 1.5 kW
耗水量 3 L/min
加工精度 单片晶圆厚度差 ≤3 μm
不同晶圆厚度差 ≤3 μm
加工面粗糙度 Ra0.2 μm (325#)  Ra0.02 μm (2000#)
设备信息 宽深高 1200×2800×1900 mm
重量 ≈4100 Kg
Z向微进给控制系统

Z向微进给控制系统

多片同时磨削

多片同时磨削

实时高精度晶圆测厚

实时高精度晶圆测厚

超薄晶圆加工

超薄晶圆加工

硅基晶圆

硅基晶圆

碳化硅SiC

碳化硅SiC

化合物半导体

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